Helsingin yliopisto perustaa ALD-teknologian huippuyksikön hollantilaisyhtiön kanssa

Helsingin yliopiston kemian osasto on sopinut atomikerroskasvatuksen (ALD) huippuyksikön perustamisesta yhdessä ASM Internationalin kanssa.

Hollantilainen ASM on johtava puolijohdealan prosessointilaitteita valmistava yritys. Yhteistyö kattaa myös ALD CoE (Atomic Layer Deposition Centre of Excellence) -huippuyksikön rahoittamisen.

Huippuyksikkö keskittyy ALD:n lisäksi myös muihin atomitason menetelmiin ja ohutkalvomateriaaleihin, joita tarvitaan tulevaisuuden mikroelektroniikan valmistukseen.

Sopimus laajentaa merkittävästi kumppanusten jo vuonna 2004 käynnistynyttä yhteistyötä. Lisäksi sopimus yli kaksinkertaistaa ASM:n rahoituksen yliopistolle.

Sopimuksen myötä ASM laajentaa yliopiston Kumpulan kampuksen Chemicum-rakennuksessa toimivaa omaa tutkimusyksikköään ASM Microchemistry Oy:tä.

Atomikerroskasvatus on menetelmä, jolla ohutkalvoja valmistetaan atomikerros kerrallaan. Kalvoja käytetään integroiduissa piireissä ja muissa sovelluksissa. ALD-kalvoja on esimerkiksi kaikissa uusissa puhelimissa ja tietokoneissa.

Teknologian merkitystä kuvaa sen keksijän Tuomo Suntolan vuonna 2018 saama miljoonan euron Millennium-palkinto.

Osa Suomen kansallista tutkimusinfrastruktuuria

Helsingin yliopiston vuonna 1990 aloittanut Helsinki ALD -ryhmä on kansainvälisesti tunnetuimpia ALD-kemian tutkimusryhmiä. Ryhmää vetävät professori Mikko Ritala ja apulaisprofessori Matti Putkonen.

Suomen Akatemia valitsi vuonna 2020 ALD-keskus Suomen kansallisten infrastruktuurien tiekartalle. Keskuksen muodostavat Helsinki ALD -ryhmä yliopiston kemian osastosta ja kiihdytin- ja röntgenlaboratoriot fysiikan osastosta.

ALD-keskus toimii kansallisena alustana atomitason prosessointimenetelmien tutkimukselle ja koulutukselle. Lisäksi se tukee muita tutkimusaloja, jotka tarvitsevat moderneja menetelmiä ohutkalvojen kasvatukseen, karakterisointiin ja pintakemian tutkimukseen.

ALD-koulutukseen maisteriohjelma

Helsingin yliopisto on käynnistänyt myös ainutlaatuisen atomikerroskasvatuksen maisteriohjelman.

Opiskelijat valmistuvat epäorgaanisen materiaalikemian opintolinjalta materiaalitutkimuksen maisteriohjelmasta. Heidän kurssinsa kattavat kaikki tärkeät ALD:n osa-alueet, kuten lähtöaineet, ohutkalvojen kasvatuksen, karakterisoinnin ja sovellukset.

”Koulutuksemme ja konkreettinen omin käsin tekeminen antavat meiltä valmistuville poikkeuksellisen hyvät lähtökohdat liittyä nopeasti kasvavaan kansainväliseen ALD-yhteisöön”, Matti Putkonen sanoo.

Putkonen nimitettiin vuonna 2019 atomikerroskasvatuksen ja -etsauksen apulaisprofessoriksi tiettävästi ensimmäisenä maailmassa.

(Kuva Adobe Stock) ALD-menetelmä ja -tutkimus ovat erityisen tärkeitä puolijohde- ja mikroelektroniikan alalle.

Kerro meille mielipiteesi!

 

Anna palautetta

Lisää uutisia